進(jìn)口電化學(xué)工作站常見的分析方法有哪些？

　　進(jìn)口電化學(xué)工作站是一款由單片機(jī)控制的具有16位總線寬度及18位AD轉(zhuǎn)換精度的工作站。該儀器擁有40多種電化學(xué)與電分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)方法。使用簡單方便，實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)顯示，便于操作者直觀、方便的觀測實(shí)驗(yàn)狀態(tài)。同時(shí)，該儀器適合兩電極、三電極及四電極工作模式。可滿足化學(xué)、材料、能源、環(huán)境、醫(yī)學(xué)等眾多領(lǐng)域的科研及教學(xué)工作。該儀器可實(shí)現(xiàn)電位（控制）、電流控制，開路電壓測量、各種伏安分析和極譜分析等電化學(xué)研究和分析方法。

　　進(jìn)口電化學(xué)工作站是專為能源樣品測試而打造的多樣品阻抗測試系統(tǒng)。8個(gè)通道進(jìn)行序列測試，尤其適合樣品量大的情況；連續(xù)測試，無需值守，充分提高用戶的時(shí)間利用率。

　　該系統(tǒng)可與電池循環(huán)充放電設(shè)備聯(lián)用，在對電池充放電的同時(shí)，進(jìn)行阻抗序列測試，也適合級(jí)電容器、燃料電池等樣品的阻抗測試。

　　利用進(jìn)口電化學(xué)工作站，常見的分析方法有：

　?。?）線性極化（線性掃描法）及用來研究添加劑對鍍層質(zhì)量的影響，比如當(dāng)極化加強(qiáng)時(shí)，鍍層一般可以得到細(xì)化。

　?。?）循環(huán)伏安法，可以用來研究合金或多組分電鍍時(shí)，如何控制不同成分的沉積量。通過不同的添加劑或者調(diào)整添加劑的用量，在循環(huán)伏安曲線上可以看到氧化還原電位的移動(dòng)（還原電位即為沉積電位）。

　?。?）進(jìn)口電化學(xué)工作站交流阻抗/微分電容曲線法，通過分析電容變化曲線，了解添加劑對吸附大小的影響，吸附越大時(shí)，鍍層的平整性就越好。微分電容曲線在電化學(xué)工作站中由電位掃描交流阻抗方法測量得到。